磁控濺射(shè)真空鍍膜機
磁控濺射 法是一種 涉及 氣體 等離子體(tǐ) 的沉積(jī) 技術 ,產生 的等離子(zǐ) 氣被限製 在含有 待沉積 物質 的空間裏 ,而濺射靶 的表麵 被(bèi)等離子體 中的高能(néng) 離子 所侵蝕 ,這些 等離子體 釋放 的原子 穿過 真空環境 ,再沉積 到基片 上形成 薄膜 。
濺射 功(gōng)率 的影響 :當基體 和塗層 材料 確定 時,工藝 參數 的選擇 對(duì)塗層 的生長(zhǎng) 速度 和塗層 質量 都有 很大(dà) 的影響 .濺射 功率 的設(shè)置 對塗層 生長 速度 和塗層 質量 都有 很大 的影響 。
氣壓 效應 :磁控濺射(shè) 是在低氣壓 下進行 的高速 濺射 ,因此 必須 提高 氣體 的離化率,使(shǐ)之形成 等離子體 .為了 保證 濺射 功率 固定 ,需分析 氣壓 效應 對磁控濺射 的影響 。
產品 具有 磁(cí)控濺射 膜的優點(diǎn) 。
(1)無論 熔化 溫度 如何(hé) ,幾乎 所有 材料 都可 通過 磁控濺(jiàn)射 法沉積
(2)可根據 基材 和塗層 的要求 調整 光源 ,並將其(qí)放置 在腔內(nèi)的任何 位置
(3)可沉積 合金 和化合物 的薄膜 ,但成分 與原材料 相似
一、磁控濺射 中的環形 磁場 沿環形 磁場 旋轉 ,迫使 二(èr)次電子(zǐ) 沿該磁場 旋轉 相應 地,環形 磁場 控製 的區域 是等離子體 密(mì)度 高 的地方 .在磁控(kòng)濺射 過程 中,就 看到(dào) 濺射 氣體 -氬氣 在該部(bù)位 發(fā)出(chū) 強(qiáng)烈 的淡藍色 輝光 ,形成 光環 .當靶材(cái) 被離子轟擊 得強烈時(shí),它會濺射 出一條 環形 溝槽 .環(huán)形 磁場 是電子 運動 的軌道(dào) ,由磁控濺射 靶的濺射 溝槽 形象 地顯示 出來 .磁(cí)控濺射 靶的濺射 溝槽 一旦 穿(chuān)透 靶材 ,會 導致 整(zhěng)個 靶材 報廢 ,因此 靶材 的利(lì)用率低 底,一般 低於百分之四十 百分之;
不可以可實現 強磁性材(cái)料 的低溫 高(gāo)速 濺射 ,因為 差不多 所有 磁通量 都不(bú)可以過 磁靶(bǎ),因此 在靠近 靶標(biāo) 表麵 的地方 不可以再(zài)加強 磁場 。
2、在鋁合金製品裝飾中(zhōng)的應用(yòng)3、高檔產品零/部件表麵(miàn)的裝(zhuāng)飾鍍中(zhōng)的應用5、在玻(bō)璃深(shēn)加(jiā)工產業中的應用
磁控製(zhì) 濺(jiàn)射 膜的注意事項
1,在(zài)鋁合金 製品 裝飾裝(zhuāng)修 中的(de)應用 。
高檔(dàng) 產品 零配件 表(biǎo)麵 裝飾 鍍層 的應用 。在不(bú)鏽鋼 刀片 塗裝(zhuāng)工藝 中的應用 。在(zài)玻璃深加工 行業 中(zhōng)的應用 情況 。輻射 :一些(xiē) 鍍膜 用到 射頻 電源 上,如(rú)功率 大,須作屏蔽 處理 .此外 ,歐洲標(biāo)準的單室 鍍膜機 門框 內嵌 裝金屬線 以屏蔽 輻(fú)射 。
2、金屬 汙染 :鍍膜 材料 (如鉻、銦(yīn)、鋁等)對人體 有害 ,尤其 要注意 真空室 清理 過程 中產生(shēng) 的粉塵 汙染 。
3、噪音汙染 :如特別 是一些 大型 鍍膜設備 ,機械 真空泵 噪音 大,可將泵隔絕 於牆外 。
4、光(guāng)汙染 :離子 鍍膜 過程 中,氣體 電(diàn)離 放(fàng)出 強光 ,不(bú)宜 長時間(jiān) 透過觀察窗久看(kàn).
