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臥式磁控鍍彩膜生產線

臥式磁控鍍彩膜生產線

  • 所屬(shǔ)分類:磁控鍍彩膜生產線(xiàn)
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  • 發布日期:2021-01-27 17:31:31
  • 產品概(gài)述
  • 性能特點
  • 技術參數

臥式(shì)磁控鍍膜生產(chǎn)線設備簡(jiǎn)介

 

★該臥式磁控鍍膜(mó)生產線可鍍的工藝膜係(xì)有:金膜、銀膜、鋁膜、鈦金膜(mó)、不鏽鋼膜等單質膜和氧化膜、複合膜(mó)、增透膜、增亮膜、光學膜、ITO導電膜(mó)、EMI屏(píng)蔽膜等等。設備能生產(chǎn)的產品有銀鏡、鋁鏡(jìng)、彩色玻璃(lí)、工藝玻璃、光伏玻璃、光電玻璃、ITO導電玻璃、非(fēi)導玻璃(lí)等,以及PCPVCPET等材料表麵(miàn)鍍ARAFITO非導等膜和金(jīn)屬單質膜等工(gōng)藝。設(shè)備主(zhǔ)要(yào)應用在手機鏡片(piàn)和手(shǒu)機後蓋鍍膜、電子(zǐ)、電器、軍工(gōng)、家電、五金、玩(wán)具、汽車、建築、建材、燈飾、裝飾等眾多行業領域。本設備的(de)優點(diǎn):抽速快及穩定、產量高、特(tè)殊的(de)傳動結構運行平穩不卡頓(吸收進口設備精華(huá))。高真空部分(fèn)可根據客戶實(shí)際(jì)需要全選擇油(yóu)擴散泵或分子泵,或兩者搭配使用;設計有防返油機(jī)構,減少對產品的汙染;使用(yòng)國內或國外知名品(pǐn)牌真空泵機組,加上人性化結構設計理念和智能控製(zhì)及(jí)顯示(shì)係統,使設備盡善盡美。

 磁控鍍彩膜生產(chǎn)線

★工藝氣體:氣、氧氣、氮氣等,具體看生產的產(chǎn)品而(ér)定。

★靶材材質:金、銀、銅、鋁、鈦、鋯、矽、鎳、鉻、錫、銦、铌、不鏽鋼等或錫銦、矽鋁(lǚ)、鎳鉻等合金。

磁控濺射電源:直流電源、中頻(pín)電源、射頻電源、離子轟擊電(diàn)源、離子源電源(yuán)(按客戶(hù)需要而定)

★該立式磁控鍍(dù)膜生產線的結(jié)構:有34鎖、54鎖、56鎖、7室(shì)6鎖、98鎖。

進片(piàn)平台-----前粗抽室(shì)(進片室,粗抽真空泵機(jī)組)-----前高真空(kōng)室(精抽真空泵機組)-----前(qián)過渡室-----鍍膜室123(鍍膜室的個數按工藝而定,精抽真空泵機組、磁控濺射陰極靶、氣體係統-----後過渡室(shì)-----後高真空室(shì)(精抽真空泵機組)-----後粗抽室(粗抽真空泵機組)-----出片平台(如此循環工作)。

 磁控鍍彩膜(mó)生產線(xiàn)

★該立式磁控鍍膜生產線的工作流程:有34鎖、56鎖、76鎖、98鎖,現以76鎖為例。

玻璃從清(qīng)洗機出來(lái)進入進片平台-----前粗抽室放氣數秒並開真空鎖1,玻璃進入前粗抽室到位後關真空鎖1並抽真空(如有轟擊開轟擊,有時(shí)需要充入氬氣)-----打(dǎ)開真空鎖2後玻(bō)璃進入前高真(zhēn)空室後關真空鎖(suǒ)2繼續抽高真空-----達到一定真空後開鎖3並進入(rù)前過渡後關真空鎖3、工件架慢速進(jìn)入鍍膜室123進行磁控濺射鍍膜工(gōng)作(zuò)(鍍膜真空度在2×10-1Pa左右,按工藝而(ér)定)-----鍍膜結束後到玻璃走到過渡室-----開真空鎖4並進入後(hòu)高真空(kōng)室關真空鎖4後停(tíng)留一定時間後(hòu)-----開真空鎖5並進入(rù)後粗(cū)抽室後關真空鎖5、放氣數秒後開真空鎖6-----玻璃走到出片台後(hòu)關閉(bì)真空鎖6-----直接下片或走到下一個工序(如此循(xún)環工作)。

 磁控鍍彩膜生產線

磁控濺射工作原(yuán)理:電子在電場的作用下加速飛向基片的(de)過程中與氬(氧、氮等)原子(zǐ)發(fā)生碰撞,電離(lí)出大量的氬(氧、氮等)離子(zǐ)和電子,電子飛向基片(piàn)。氬離子在電場的(de)作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜。二次電子在加速飛向基片的過程中(zhōng)受到磁場磁力的作用下,被束縛在靠近靶麵(miàn)的等(děng)離子體區域(yù)內,該區域內等離子體密度很高,二(èr)次電子在磁場的作用下圍繞靶麵作圓周(zhōu)運動,該電子的運動路徑很長,在運動(dòng)過程中不斷的與氬原(yuán)子發生(shēng)碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材,經(jīng)過多次碰撞(zhuàng)後電子的能量逐漸降低,擺(bǎi)脫磁力線的束縛,遠(yuǎn)離靶材,最終沉積在基片上。磁控濺射就是以磁場束縛和延長電子的運動路徑,改變電子的運(yùn)動方(fāng)向,提高工作氣體的電離率和有效利用電子(zǐ)的能量。磁控濺射的(de)基本原理是利用 Ar02N2混合氣(qì)體中的等離子體在電(diàn)場和交變磁場的作用下,被加速的高能粒子轟擊靶材表麵,能量交換後,靶材表麵的原子脫離原晶格而逸出,轉移到基體表麵而成(chéng)膜。



磁控鍍彩膜生產線




      




鍍彩膜產品4_調整大小.JPG



磁控(kòng)鍍(dù)彩膜生產線



  



磁控鍍(dù)彩膜生產線




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