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單(dān)銀(yín)/雙(shuāng)銀Low-E鍍膜生(shēng)產(chǎn)線

單銀(yín)/雙(shuāng)銀(yín)Low-E鍍膜生產線

  • 所屬分類:低輻射Low-E鍍膜生(shēng)產線
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  • 發布日期:2021-01-19 15:30:13
  • 產(chǎn)品概述
  • 性能特點
  • 技術(shù)參數

單銀/雙銀Low-E鍍膜生產線

1、Low-E鍍膜(mó)生產工藝及其原理(lǐ)

  1.1概述

    鍍(dù)膜玻璃的生產(chǎn)方法(fǎ)很多(duō),主要有真空磁控濺射法、真(zhēn)空(kōng)蒸發法(fǎ)、化(huà)學氣相沉積(jī)法以及溶膠-凝膠法等。

而(ér)其中目前(qián)國內外Low-E玻璃生產(chǎn)應用廣泛的方式是真空磁控濺射法(fǎ),特別是(shì)建築(zhù)Low-E玻璃。磁控濺射鍍膜玻璃(lí)利用磁(cí)控濺射技術,可以設計製造多層複雜膜係,可在透(tòu)明的玻(bō)璃基片上(shàng)鍍出多種顏色,膜層的耐腐(fǔ)蝕(shí)和耐磨性能較(jiào)好(hǎo)。磁控濺(jiàn)射法(fǎ)是(shì)濺射速率高,性能比較穩定的鍍(dù)膜方法。

1.2真空磁控濺射的基本原理

真空磁控濺射法是將玻璃置於真空室內,並通入工作氣體(氬(yà)氣、氮氣和氧氣等),當在濺射陰極、陽極間通(tōng)電時,由於高壓電場的作用使氣體(氬氣)分子電(diàn)離,帶正電的氬粒子將在電場的加速下,向(xiàng)陰極靶(bǎ)材表麵(miàn)撞擊,將靶材表麵的金屬離子擊出,以逐漸沉積在玻璃表麵形成(chéng)薄膜。

在濺(jiàn)射過(guò)程中,大部分(fèn)能量轉變成熱量,因此需要對真空濺射室進行水(shuǐ)冷卻。

濺射工藝可以(yǐ)在大麵(miàn)積(jī)的基片上進行均勻鍍膜(mó)。

 2、Low-E鍍膜生產線結構和工(gōng)藝(yì)流(liú)程

Low-E鍍膜整(zhěng)線由(yóu)以下部(bù)分構成:

手動(dòng)裝片台(tái) ---自動上片(piàn)台 ----過渡台(一) ---- 前清洗機 ----原片觀察台----橫向定位台----進片台----進片室Z1----進口精抽室Z2----- 進口過渡室Z3 ---- 濺射室Z4-1、2、3、4、5、6、7、8等(濺射室的(de)多少視工藝而定)-----出口過(guò)渡室Z5---- 出口(kǒu)精(jīng)抽室Z6---- 出片室C7----出片台 ----過渡台(二(èr))---- 光譜儀過渡台----檢驗室-----噴粉機---- 過(guò)渡(dù)台(三(sān))--- 自動下片台----手動卸片台

本設備(bèi)采用七室6鎖結構:七室結構優於(yú)五室結構,避免了玻璃傳入濺射區域時附帶雜質氣體對濺射區域穩(wěn)態(tài)的衝擊(jī)和汙染,成膜純淨度高,膜結構牢固(gù),抗腐蝕及紫外照射性強,理化(huà)性能好。在陰極選用上,使用平麵陰極和直(zhí)流電源,采用旋轉陰極和中頻電(diàn)源,會使鍍膜工藝更穩定,膜層更致密。

圖1-1,圖1-2, Low-E鍍膜生(shēng)產(chǎn)線

單銀/雙銀Low-E鍍(dù)膜生產線單銀/雙銀Low-E鍍(dù)膜生產線

3、Low-E鍍膜生產線(xiàn)的性能及其參數

     正因(yīn)為看到國內外還存在一些差距,認識到國內(nèi)廠家過去的一些不足,鴻利達公司迎難而上,通過引(yǐn)進人才和聘請大學教授,與科研(yán)機構合作,積極研(yán)發、改進。現在17c.c-起草口研發製造(zào)的Low-E鍍膜設備技術水平躍上一個新台階(jiē),達到國內先進水平。具體性能(néng)和參(cān)數如下表所示:

3.1玻璃規格

可鍍玻璃尺寸

尺寸

單位

較大可達

2440X3660

mm

較小可達

300X900

mm

可鍍玻璃厚度

3-19

mm

3.2玻璃原(yuán)片(piàn)要(yào)求

1、玻璃原片必須幹淨、無劃傷、無刮痕(hén)、無氣泡等缺陷,玻璃放置時間不(bú)要超過二周。

2、玻璃原片(piàn)表麵必須無油、無膠帶、無紙痕、無錫點等殘留物。

3、玻璃(lí)原片不得雨水淋、回潮、發黴。

4、單、雙銀可鋼化鍍膜在鋼化前玻璃需清洗幹淨,以防鋼化過程中造成玻璃表麵破壞而致鍍膜層(céng)有(yǒu)針眼或膜層耐磨性降低。

單(dān)銀/雙銀Low-E鍍膜生產線

圖2-1 手動上、下片(piàn)台

3.3過渡台(一)

單銀/雙銀Low-E鍍膜生產線

3.4、前清洗機

由於Low-E鍍膜玻璃在鍍膜前要求基片表麵嚴格潔淨(jìng)、幹燥,因此在玻(bō)璃基片進(jìn)行鍍膜前必須清洗。為此專門配置前清洗機用來清洗鍍膜玻璃基片。清洗機采用仿(fǎng)本特勒清洗機,清(qīng)洗、風幹一(yī)次完(wán)成(chéng)。配多(duō)道毛刷盤(pán)和風刀(dāo),先清洗,後風刀吹幹。清洗毛刷(shuā)盤可以根(gēn)據清洗效果上下調整,以保(bǎo)證清潔幹淨。風刀角度也可以調整(zhěng),以達到好的吹幹角度。吹風必須幹淨、無塵、無油,為此配一套風機和過濾係統,風(fēng)機風量要求足夠大,過濾網根據(jù)過(guò)濾效果安裝多道,並且日常維護要求達一定期限就要求跟(gēn)換過濾(lǜ)棉,保證吹風無汙染(rǎn)。

3.5、電源

本鍍膜線(xiàn)采用進口電源,穩定性好,控製準(zhǔn)確、可靠,並具有保護功能。

單銀/雙銀Low-E鍍膜生產線          單銀/雙銀Low-E鍍膜生產線(xiàn)

圖(tú)5-1真空(kōng)控製(zhì)櫃                                    5-2低真(zhēn)空控製櫃

控製電路係統大約上千個以上的數字輸入和數字輸出,100個以上模擬輸入及100個模擬輸出通過工業控製機由PLC控製,輸入輸出模塊安裝於(yú)控製室及其它開關櫃裏, 計算機,PLC及相應測量儀(yí)器(qì)控製係統安裝於主控房控製裏,液(yè)晶(jīng)顯示器,鍵盤及鼠標放置於控製房操作台(tái)上(shàng)。

單銀/雙銀(yín)Low-E鍍膜生產線

圖5-3 控製室操作係統布局(jú)

傳動控製(zhì):控製準確(què)、可(kě)靠(kào),根據具體情(qíng)況而快、慢速控製,生產效率高。

3.6、在線光學檢測係統  1套)

 在線光學測量係統是檢測鍍膜玻璃成品的設備,該檢測(cè)係統使得產品真(zhēn)正做到光譜性能100%經過檢驗,它可以(yǐ)通過電腦對每一片玻璃的縱向及記錄和(hé)保存測量數據、測量時間、類型、批次,定時打印(yìn)存檔,是(shì)產品(pǐn)質量追溯和出具質量合格證依據之一。對於生產低輻射玻(bō)璃,該係統還能在線非接(jiē)觸性準確測量產品的麵阻值。

具體如下圖所示

單銀/雙銀Low-E鍍膜生產線

圖6-1在線光學檢測係統

3.7、在線噴粉機

3.8、自動下片台

3.9、人工(gōng)下(xià)片台


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