真空（kōng）膜是指要求具有較高真空度的（de）薄膜

真空膜是指要求具有較高真空度的（de）薄膜，特別（bié）是（shì）真空離子蒸發、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等。磁控濺射靶在真空鍍膜過程中，由於發射時（shí）溫（wēn）度較高，會使射出變形，所以它有一個水套（tào）來冷卻射。但要保證套管內水溫不受環境溫度和自然溫度的影響，通常需要借助冷水機組實現真空鍍膜機組的冷卻冷卻。

負壓（yā）條件下成膜有許多優點：可以減（jiǎn）少（shǎo）蒸發的材料原子、分子在飛向基底的（de）過程中與分子的碰撞（zhuàng）、氣體中活性分子與蒸發源材料之間（jiān）的化學反應(例如氧化等)，以及降低成膜過程中氣體分（fèn）子進入基底（dǐ）中成為雜（zá）質的數量，采用（yòng）金屬真空鍍膜，從而提供膜層的致密度、純度（dù）、沉積速率和與基底的粘接能力。一般真空蒸（zhēng）鍍要求成膜室（shì）內壓力等於或低於10-2Pa，對於距離基片較遠、成膜質量要求高的蒸發源要求降低壓力。

在濺射膜上（shàng）激光濺射（shè）鍍膜，成分均勻，易於保（bǎo）持，在（zài）原子尺度上（shàng）厚度（dù）均勻度相對較差（chà）(因為是脈衝濺射)，晶向(外邊沿)生長的控製也比較一般。真空鍍膜機操作規程具體操（cāo）作時，請參照本（běn）說明書及本設備上儀表盤的指針顯示和每個旋鈕下的標注說明。確認真空鍍膜機的各（gè）個操作控製開（kāi）關（guān）是否處於“關斷”位置。就我國（guó）現有的塗裝生產線而言，主要存在以下問題：設計水平不高，我國在（zài）塗裝設備開發方麵（miàn）投入不大，先進成熟的塗裝設備很少（shǎo）占領市場，即使是國內自己建造的塗裝生產線，生產（chǎn）線上（shàng）的一些關鍵設備也是引進（jìn）多了。它在國內的一些基礎部件和控製部件的質量並沒有過關，經不（bú）起長期的考驗（yàn）。