臥式磁（cí）控鍍鏡生產線

★該臥式磁控鍍膜生（shēng）產線可鍍的工藝膜係有：金膜、銀膜、鋁膜（mó）、鈦金膜、不鏽鋼膜等單質膜和氧化膜、複（fù）合膜、增透膜、增亮膜、光學膜、ITO導電膜、EMI屏蔽膜等等。設備能生產的產品有銀鏡、鋁鏡、彩色（sè）玻璃、工藝（yì）玻璃、光伏玻璃（lí）、光電玻璃（lí）、ITO導電（diàn）玻璃、非導玻（bō）璃等，以及PC、PVC、PET等材料表麵鍍AR、AF、ITO、非導等膜和金屬單質膜等工藝。設備主要（yào）應用在手機鏡片和手機後蓋鍍膜、電子、電器、軍（jun1）工、家電、五金、玩具、汽（qì）車（chē）、建築、建材、燈飾、裝飾等眾多行業領域。本設（shè）備的（de）優點：抽速快及穩定、產量高、特殊的傳（chuán）動結構運（yùn）行（háng）平穩不卡頓（吸（xī）收進口設備（bèi）精華）。高真空部分可根據（jù）客（kè）戶實際（jì）需要全選擇油擴散泵或分子（zǐ）泵，或（huò）兩者搭配使用；設計有防返（fǎn）油機構，減少對產品的汙染；使（shǐ）用國內（nèi）或國（guó）外知名品牌（pái）真空泵機組，加上人性化結構設計（jì）理念和智（zhì）能控製及顯示（shì）係統，使設備盡善盡美。

★工藝氣體（tǐ）：氬氣、氧氣、氮氣等（děng），具（jù）體看生產的產品而定。

★靶材材質：金、銀、銅、鋁、鈦、鋯、矽、鎳（niè）、鉻、錫、銦、铌、不鏽鋼等或錫銦、矽鋁、鎳鉻等合金。

★磁控濺射電源：直流電源、中頻電源、射頻電源（yuán）、離子轟擊電源、離子源電源（按客（kè）戶需要而定）

★該磁控鍍膜生產線的結構：有3室4鎖、5室4鎖、5室6鎖（suǒ）、7室6鎖（suǒ）、9室8鎖。

進片平台-----前粗（cū）抽室（進片室，粗（cū）抽真（zhēn）空泵機組）-----前高真空室（精抽真空泵（bèng）機組）-----前過渡室-----鍍膜室1、2、3（鍍膜（mó）室的個數按工藝而定，精抽真空泵機組、磁控濺射陰極靶、氣體係統）-----後過渡室-----後高真（zhēn）空室（精抽真空泵（bèng）機（jī）組（zǔ））-----後粗抽室（粗抽真空泵機組）-----出（chū）片平台（如此循（xún）環工作）。

★該磁（cí）控（kòng）鍍膜生產線的（de）工作流程：有3室4鎖、5室6鎖、7室（shì）6鎖、9室8鎖，現以7室6鎖為例。

玻璃從清洗機出來進入進片平台（tái）-----前粗抽室（shì）放氣數秒（miǎo）並開真空鎖（suǒ）1，玻璃進入前粗抽室到位後關真空鎖1並抽真空（如有轟擊開轟擊，有時需要充入氬氣）-----打開真空鎖2後玻璃進（jìn）入前高真（zhēn）空室後關真空鎖2繼續抽高真空-----達（dá）到一定真空後開鎖3並進入前過渡後關真空鎖3、工件架慢速進入（rù）鍍膜室1、2、3進行（háng）磁控濺射鍍膜（mó）工作（鍍膜真空度在2×10-1Pa左右，按工藝而定（dìng））-----鍍膜結束後到玻璃走到過渡室-----開真空鎖4並進入後高真空室關真空鎖4後停留一定時間後-----開（kāi）真空（kōng）鎖5並進入（rù）後粗抽室後關真空鎖5、放（fàng）氣（qì）數秒後開真空鎖6-----玻璃走到（dào）出片台後關（guān）閉真空鎖6-----直（zhí）接下片或走到下一個工序（如此循（xún）環（huán）工作）。

★磁控濺射工作原理：電子在電場的作用下加速飛向基片的（de）過程中與氬（氧、氮等）原子發生碰撞，電離出大量（liàng）的氬（氧、氮等）離（lí）子和電子，電子（zǐ）飛向基片。氬（yà）離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上（shàng）形（xíng）成膜層。二次電子在加速（sù）飛向基片的過程中受到磁場磁力的作用下，被束縛在（zài）靠近靶（bǎ）麵的等（děng）離子體區域內，該區（qū）域內等離子體密度很高，二次電子在磁場的作（zuò）用下圍繞（rào）靶麵作圓周運動，該電子的運動路徑很長，在運動過程中不斷的與氬原子發生碰撞電離出大量的氬離子（zǐ）轟擊靶材，經過多次（cì）碰撞後電（diàn）子的能（néng）量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠離靶（bǎ）材，最終沉積在（zài）基片上。磁控濺射就是以磁場束縛和（hé）延長電子的運動路徑，改變電子的運動方向，提高工（gōng）作氣體的電離（lí）率和有效利用電子的能量。磁（cí）控濺射的基（jī）本（běn）原理（lǐ）是利用 Ar一02或N2混（hún）合氣體中的等離子體在電場和交變磁場（chǎng）的作用下，被（bèi）加速的高能粒子轟擊靶材（cái）表麵，能量（liàng）交換後，靶材表麵的原子脫（tuō）離原晶格而逸出，轉移到基體表麵而成膜。