鍍膜是在高真空度進行的

2019-05-22 11:40:18

次

在鍍（dù）膜領域，鍍膜（mó）後薄膜樣品的厚度是（shì）影響薄膜性能的重要因素。因此，在評估薄膜樣品的性能時，有必要測試不同厚度下薄膜樣（yàng）品的性能。在真空鍍膜的情況下（xià），往往需要多次（cì）準備樣品。但是這麽（me）多次製備樣品有兩（liǎng）個問（wèn）題（tí）:一，對於不（bú）同時間生長的樣品，儀器（qì）的狀態是不同的，所以影響（xiǎng）薄膜樣品性能的因素可（kě）能不僅（jǐn）僅是厚（hòu）度（dù）；其次，在真空鍍膜實驗（yàn）中加載樣品時（shí），再次獲得真空是非常（cháng）耗（hào）時的。和檢測成本增加。

真空鍍膜是一種需要在高真空度下進行的鍍膜，包（bāo）括真空離子蒸發、磁控（kòng）濺射、MBE分子束（shù）外延、PLD激光濺射（shè）沉積等。在真空鍍膜過程中，磁控濺射（shè）靶在發射過程中會產生高溫，使發射變形，所以它有水套來冷卻發射。為了保（bǎo）證水套內的水溫不受環境和自然氣溫的（de）影響（xiǎng），通常需（xū）要使用冷水機（jī）對真空（kōng）鍍膜機進（jìn）行冷卻（què）。

使用（yòng）電子鍍膜（mó）時，在（zài）鍾罩外圍要（yào）放一塊鋁板（bǎn）。觀察（chá）窗的玻璃應采用鉛玻璃，觀察時應佩戴鉛玻璃眼（yǎn）鏡，防止x光對人體造成傷害。2.在離子轟擊和蒸發過程（chéng）中，要特別注意高壓線接頭，不要觸（chù）碰（pèng），以防（fáng）觸（chù）電。1.真空鍍膜機正常運行時，必須先打開水（shuǐ）管，工作（zuò）中要注意水壓。