真空鍍膜機(jī)主要是指一種需要在高真空度下進行(háng)的鍍膜,包(bāo)括多種,包括真空電阻加熱蒸發、電子槍加熱蒸發、磁(cí)控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積、離子束濺(jiàn)射等(děng)。主要思路分為蒸(zhēng)發和(hé)濺射。
真空室。
塗布(bù)設備主要包括連續塗布生產線和單室塗布機兩種形式。表麵(miàn)進行不鏽鋼材料製造、氬(yà)弧焊(hàn)和化學拋光處理。各(gè)種規格的法蘭接口焊接在真空(kōng)室組件上。
真(zhēn)空獲得部分。
在真空技術中,真空獲得部(bù)分是一個重要的(de)部分。真空不是一個真空設備和(hé)方法可以(yǐ)達到的,必須同時使用幾個泵,如機械(xiè)泵、羅茨泵和分子泵係統。
真空測(cè)量部分。
真空係統的真空測量部分是測量真空室中(zhōng)的壓力。像真空泵(bèng)一樣,沒有真空計可(kě)以測量整個真空範圍,所以人(rén)們根據不同的原理和要求製作了多種真(zhēn)空計。如(rú)熱電偶(ǒu)表、電離表、皮拉尼表等。
電源部(bù)分。
目標電源主要包(bāo)括DC電源、中頻電源、脈衝電源和射頻電源。常見的電源廠商有AE、ADL、Hottinger等。
工藝氣體輸入係統。
機械傳動部分。
塗(tú)層要求周圍厚度均勻,因此,在塗層過程中必須有三次旋轉才能滿足要求(qiú)。即要求大工件台旋轉(I)時(shí),小工件承載台也旋轉(II),工(gōng)件本身也可以同時旋轉(III)。在機(jī)械設計中,大工件轉盤的底(dǐ)部中(zhōng)心通常有一個(gè)大的主動齒輪,周圍有一些小的行星齒輪。如果要實現產(chǎn)品旋轉,通常用撥(bō)叉撥動工件旋(xuán)轉。
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