真空鍍膜的作用

2020-12-21 11:23:10

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真空鍍膜是真空應（yīng）用領域的一個（gè）重要方麵，它是基（jī）於真空技術，采用物理或化（huà）學（xué）方法，並吸收電子束、分子束、離子束、等離（lí）子束、射頻和磁控等一（yī）係列新技術，為科學研究（jiū）和實際生產提供薄膜製備的新工藝.簡而言之，將金（jīn）屬、合金或化合物在（zài）真空中（zhōng）蒸發或濺射，使之凝固（gù）並沉（chén）積在塗覆物(稱為基體（tǐ），基片)上的方法，即真（zhēn）空鍍膜（mó）。

真空鍍膜

真空鍍（dù）膜的作用主要是使鍍膜表麵具有高的金屬光澤（zé）和鏡（jìng）麵效果，特別是汽車燈罩，具有非常重要的（de）聚光效果；其次（cì），使鍍膜表（biǎo）麵具有極好的阻（zǔ）隔性，提供（gòng）優良的（de）電磁屏蔽和導電效果（guǒ）。根據氣相金屬生（shēng）成方式和沉積方式的不同，真空鍍膜分為兩種工藝：熱蒸發鍍膜法和磁控濺射鍍膜法。而磁（cí）控濺射（shè）法由於鍍層與基體結合力強，鍍層致密、均（jun1）勻，因而更具技（jì）術優勢。負壓電鍍工藝是指在真空環境中，某些金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表（biǎo）麵(通常是非金屬（shǔ）)，屬於物理氣（qì）相沉積工藝，由於鍍（dù）層通常是鋁、錫、銦等金屬的薄膜（mó），所以（yǐ）又稱負壓金屬化。

真空膜是指要求具有較高真空（kōng）度的薄膜，特別是真空離子蒸發、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激光濺射沉積等。磁控濺射靶在真空鍍膜過程中，由於（yú）發射（shè）時溫度較高，會使射出變形，所以它有一個水套來冷卻射。但要保證套管內水溫（wēn）不受環境溫度和自然溫度的影（yǐng）響，通（tōng）常需要借助冷水機組實現真空鍍膜機組的冷卻冷卻。專用真空鍍膜冷水機，可穩定水溫在5℃~30℃，調節可控，可有效控製鍍膜溫度，提高鍍件質量。