真空鍍膜在薄膜生產上的作用

2020-12-21 11:14:00

次

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方麵。它以真空技術為基礎，采用物理或化學方法，吸收了（le）電（diàn）子束、分子（zǐ）束、離子束、等離子體束、射頻和磁控等一係列新技術，為科學研究和實際生產提（tí）供了一種（zhǒng）新的薄膜製備工藝。簡而言（yán）之，金屬、合金或化合物在真（zhēn）空中（zhōng）蒸發或濺射，從而可以沉積在被（bèi）塗覆的物體(稱為（wéi）基底、襯底或基體)上。

真空鍍膜技術是一（yī）種材料合成加工（gōng）技術，廣泛應用於半導體電（diàn）路（lù）、LED屏、觸摸屏、顯（xiǎn）示屏行業，如（rú）光學薄膜、感光薄膜、保護膜、工具超硬薄膜、納米材料功能薄膜的（de）生產。然而，全球製（zhì）造業的快速發展給真空鍍膜行業帶來了巨大的（de）機遇和（hé）挑戰。

與傳統鍍膜工藝相比，真空鍍膜有很多優點:在真空電場條件下，等離子體（tǐ）直（zhí）接（jiē）沉積在工件（jiàn）表麵形成膜層，避免了電鍍液（yè）的汙染；還可以將加工溫度控製在500度以內，適用於各種基體（tǐ）材料；靶材種類繁多，更適合塗覆各種產（chǎn）品。

蒸發鍍膜、濺射鍍（dù）膜和（hé）離子鍍是真（zhēn）空鍍（dù）膜技術的三種形式（shì），基於這三種技術的真空鍍膜（mó）設備是形成高質（zhì）量、高性能薄膜的（de）關（guān）鍵。以磁控濺射鍍膜設備為例，在真空（kōng）環（huán）境（jìng）下，充入的氬氣通過高壓（yā）和磁場處於（yú）離子狀態，撞擊靶材，使靶材原子衝向襯底形成薄（báo）膜層。