磁控（kòng）濺射技術

磁控濺射技術是一種起（qǐ）源於較早（zǎo）的技術，但仍（réng）可以發（fā）揮重要作用。其優越性不僅體現在塗料上（shàng），還滲（shèn）透到各個行業。今天，我國濺射技術水平與以前相比有了重大（dà）突破。隨著時代的進步和現代工業化生產的要求，社會對（duì）磁（cí）控濺射技術的要求越（yuè）來越高。這就要求一大批科研人員繼續深（shēn）入探（tàn）索，進一步研究和改進這項技術，提高其準確性和功能。，滿足現代工業日益（yì）增長的需求，更好地為社會發展和科學進步做出貢獻。

目前，磁控濺射塗（tú）層的研究越來越頻（pín）繁。磁龍濺射是低壓下高速（sù）濺射，必須有效提高氣體的電離率。一種通過引入目標陰極表（biǎo）麵的磁場，利用磁場（chǎng）限製（zhì）帶電粒子來增加濺射（shè）速率來增加等離子體密度的方法。利用外部磁場捕獲電子（zǐ），擴展和抑（yì）製電子的運動路徑，實（shí）現（xiàn）高電離率，提高鍍膜（mó）率。

在磁龍目標的濺射塗過程中（zhōng），由於磁控器目標的陰極陽極距離（lí）被確定為基本恒定值，工作氣（qì）體的壓力可能在一定範圍內（nèi）變（biàn）化（例如，0.1Pa~10Pa）。點火電壓影響較大，變化的一（yī）般趨勢（shì）是：隨著工作氣體（tǐ）壓力（lì）的逐漸增大（dà），磁控目標點火電壓也相應降低。不（bú）同材料（liào）的不同磁控目標和目標具有不同的工作（zuò）氣體（tǐ）壓力，用於目標點火。