真空（kōng）鍍（dù）膜的功能（néng）

2020-11-16 17:37:55

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真空鍍膜的功能主要（yào）是（shì）賦予鍍（dù）層表麵高度的金屬光澤和鏡麵效果（guǒ），特別是具有非常重要的光收集效果的汽車燈罩，其次（cì）賦予鍍層優異的阻隔性能（néng），提供優異的電磁屏蔽和（hé）導電效果。真空鍍膜按照（zhào）生產氣相金屬的方（fāng）法和塗料的沉積方法分為兩個過程（chéng）：熱蒸發（fā）鍍膜法和磁控濺射鍍膜法。其中，磁控濺（jiàn）射法具有鍍膜層與基材結合力強的優點，鍍膜（mó）密度大、均勻，具（jù）有較強的技術優勢。真空鍍膜技術是指在真空環境中以蒸汽的形式將某種金屬或金屬化合物沉積在材料表麵（通常是非金屬）。這是一個物理氣（qì）相沉積過程，因為鍍膜層往往是鋁、錫（xī）、鈦和其他金屬的薄膜，所（suǒ）以也被稱為真空金屬化。

真空鍍膜

磁龍濺射是一（yī）種物理氣相沉積，用於準備各種材料（如金屬、半導體和絕緣體）的薄膜。在實際塗裝過程中，沉積速率和濺（jiàn）射功率、濺射時（shí）間、目標與基材之間的距離以及工作（zuò）壓力會影響塗層的質量（liàng）和厚度。在磁龍濺射塗層中，隨著使用數量的增（zēng）加，目標材料被（bèi）消耗，目標基距離變（biàn）大。當其（qí）他參數保持不變時，塗層膜將逐漸不能（néng）滿（mǎn）足要求。磁場（chǎng）的均勻（yún）性影響薄膜的均勻性。如果磁場不對稱，塗（tú）層位置將發生變化。

磁龍濺射是一種在20世紀70年代陰（yīn）極濺射（shè）的基礎（chǔ）上發展起來（lái）的新型濺射塗（tú）裝法。由於（yú）它有效地克服了低陰極濺射率和電子（zǐ）對基板溫度升高的致命弱（ruò）點，具有快速發展和（hé）廣泛（fàn）的（de）應用。