真空膜是指要求具有較高真空度的薄膜

真空鍍膜是真空應用領域的一個重（chóng）要方麵，是以真空技術為基礎，采用物理或化（huà）學方法，結合電子束、分子（zǐ）束、離子（zǐ）束、等離子束、射頻和磁控等一係列新技術，實現薄膜製備的新工藝。簡而言之，就是將金屬、合金或化合物在真空中蒸發或濺射，使之凝固並沉積在塗膜的基體上的方法，叫做真空鍍膜。

真空（kōng）膜是（shì）指要求具有較高真空度的薄膜，特別是真空離子蒸發、磁控濺射、MBE分子束外（wài）延、PLD激光濺射沉積等。磁（cí）控（kòng）濺射靶在真空（kōng）鍍膜過程中，由於（yú）發射時溫度較高，會使射出變形，所以它有一個水套（tào）來冷卻射。但要（yào）保證套管內水溫不受環境溫度和自然溫度（dù）的影（yǐng）響，通常需要借（jiè）助冷水機組實（shí）現真空鍍膜機組的冷卻冷卻。專用真空鍍膜冷水機（jī），可穩定水溫在5℃~30℃，調節可控，可有效控製鍍膜溫度，提高鍍件質（zhì）量。

薄膜的製（zhì）備是在真空條件下進行的，包括晶態下的金屬、半導體、絕緣體等單質或化合（hé）物薄膜，雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但真空鍍膜通常是（shì）通過物理方法沉積薄（báo）膜。有三種形式的真空鍍膜，即蒸發式、濺射式和離子式。真空（kōng）膜的（de）多功（gōng）能性也決（jué）定（dìng）了它的應用場合十分豐富（fù）。總的來說，真空（kōng）鍍膜的主要作用是使鍍膜表麵具有很高的金屬光澤和鏡麵效果，使（shǐ）鍍（dù）膜材料具有卓越的（de）阻隔性，提（tí）供優良的電磁屏蔽和導電效果（guǒ）。