金屬件真空鍍膜（mó）機鍍膜工（gōng）藝（yì）介紹（二）

(3)真空鍍（dù）膜機真空包裝

真（zhēn）空泵抽至6.6x10-3pa。逐（zhú）漸是粗抽，從空氣抽至5pa上（shàng）下，用食（shí）油擴散泵開展細抽。在粗抽時（shí），可以烤製加溫至150℃。隨著鍍膜室溫度的上升，器壁放空（kōng）氣會使真空值減少，隨後又回暖，直到溫度上升到（dào）6.6x10-3pa時才能開展鍍膜工（gōng）作中（zhōng）。

(4)負電子清理

①氬直流濺射清理

真空值：通（tōng）人高純氬氣瓶(99.999%)真空值維持在（zài）2～3pa。負（fù）電子工作電壓：800～1000v。負電子時（shí）間：10min.

此時在真空泵鍍膜房間內產生電弧（hú）放電，充放（fàng）電造成的氬正離子以（yǐ）較高的力量碰撞產品工（gōng）件（jiàn）表（biǎo）層，將產（chǎn）品工件表層吸咐的（de）汽（qì）體、殘渣和產品工件表層分子（zǐ）磁控濺射（shè）出來，外露原材料的新鮮表層。

②鈦負（fù）電子

真空值（zhí）：通人高（gāo）純氬氣瓶（píng）使真空值維持在2x10-2pa。單脈（mò）衝偏壓（yā）：400～500v，pwm占空比20%。電孤電流量：60～80a，交替點燃電孤揮發源，每一個電孤揮發源點燃1～2min。

(5)真空鍍膜機（jī）鍍膜

①pvd塗層

真空值：通人高純氬氣瓶，真空值維持在2x10-2pa。單脈衝偏（piān）壓：200～300v，pwm占空比50%。電孤電流量：60～80a，點燃所有弧源，時間2～3min.

②鍍ticn

真空值：通人高純（chún）氫（qīng）氣使真空值維持在(3～8)x10-1pa，隨後再慢慢加大c2h2汽體，伴（bàn）隨著c2h2汽體量（liàng）擴（kuò）大，色澤由（yóu）金黃（huáng）色一赤金黃一玫瑰金（jīn）色（sè）一灰黑色轉變。操縱n2與c2h2二種混合氣體的百分比可以做到設定的飽和度。

電孤電流量：50～70a。單脈衝偏壓：100～150v，pwm占空比60%～80%。堆積溫度：200℃上下。鍍（dù）膜時間：10～20min，膜層薄厚0.2～0.5μm。

(6)製（zhì）冷

真空鍍膜機鍍膜工藝流程完畢後，首先關掉電孤開關電源和偏壓電源，隨後關掉氣動閥門、轉停架。產品工件在（zài）真空泵鍍膜房間內製冷至80～100℃時，向鍍膜（mó）房間內充（chōng）空氣，取下產品工件。

以（yǐ）上是多弧正離子真空鍍膜機鍍膜加（jiā）工工藝通用性步驟，運用普遍，也是最多見的。