冷（lěng）水（shuǐ）機在真（zhēn）空鍍膜工藝中的作用（yòng）

真空鍍膜的工作（zuò）原理是（shì）膜在高溫下蒸發（fā），落在工件表麵結晶（jīng）。由於空氣對蒸發的膜分子產生阻（zǔ）力，造成碰撞，晶體變得粗糙無光（guāng），因（yīn）此晶體必須在高真空（kōng）下細密明亮。如果真空度不（bú）高，晶體（tǐ）就會失去光澤，結合力也很差。早（zǎo）期（qī）真空（kōng）鍍膜依靠蒸發體自然散射，結（jié）合效率低（dī），光澤差。現在加上中（zhōng）頻磁（cí）控濺射靶，磁控濺射鋯在電場的（de）作用下加速了膜（mó）的（de）蒸發（fā）分子的轟（hōng）擊，濺出了大（dà）量的靶原子，中（zhōng）性靶原子(或分子)沉積在基底（dǐ）上成膜，解決了（le）以往自然蒸發不能加工的膜品（pǐn）種，如（rú）鍍鈦鍍鋯（gào）等（děng）。

由於其頻率高、電流大，中頻設備必須加入冷卻水。當（dāng）導體流動時，電流具有（yǒu）集膚效應，電荷會聚集在導體表麵，從而使導體發熱，因此采用中孔管作導體中間加水冷卻。

磁控控（kòng）製濺（jiàn）射靶（bǎ），為什麽還要（yào）用水冷卻（què）？磁性控製濺射靶在發射過程中會產生高溫，從而使（shǐ）射槍變形（xíng），因（yīn）此它有一個水（shuǐ）套（tào）來冷卻射槍。與此同時，磁控濺射也是電鍍技術中最突出的成就之一。其濺射率高，基片溫度升低，膜-基結合（hé）力好。

對（duì）電子在非均勻電磁場中的運動規律進行了深入的研究，探討了磁控濺射的一般原理，以及磁場的橫向不均勻性和對稱性，這是磁（cí）約束的根（gēn）本原因。磁性控製濺射是鍍膜（mó）工藝中最突出的成就之一。其濺射率高，基片溫度升低，膜-基結合力好，設備（bèi）性能穩定。

冷卻器是一種水冷設備，可以（yǐ）提供恒溫，恒流（liú），恒壓的冷卻（què）器。它的工作原理是先向機器內的水箱注入一定量的（de）水，通過製冷係統將水冷卻，然後由泵將低溫（wēn）冷卻水輸送到需要冷卻的設備中，冷凍水帶走熱量後，溫度升高，再回流到水箱中，達到冷卻的效果。可以根據需要自動調節冷卻（què）水溫度（dù），長期使用可以節省用水（shuǐ）。

冷（lěng）卻（què）器可以控製（zhì）真空鍍膜機的溫度，保證鍍件的優質。若不配備冷水（shuǐ）機，則無法使真空鍍（dù）膜（mó）機達（dá）到高精度、高效（xiào）率地控製溫（wēn）度的目的，因為自（zì）然水和水塔的散熱必然會受到自然溫度的影響，而且這種控製方式（shì）非常不（bú）穩定。

冷水機組有完全獨立的製冷係（xì）統，不（bú）受溫度和環境的影響。水溫在5℃~30℃範圍內調節控製，可以達到高精（jīng）度高效控製溫度的目的。冷水機組有獨立的水循環係統。