電子束（shù）鍍膜機加熱原理及特點

電（diàn）子束鍍膜機的加熱蒸發（fā）源利用熱陰極發射電子，在電場的作用下成為高能量密度的電子束，直接撞（zhuàng）擊鍍層。電子束的動能轉化為熱能，使鍍層（céng）加熱蒸（zhēng）發，完成蒸（zhēng）發鍍層。

電子束加熱蒸發的（de）優（yōu）點:

1.電子束加熱比電阻加熱具有更高的通量密（mì）度，可以蒸發W、Mo、Al2O3等（děng）高熔點材料，蒸發速（sù）率更高；

2.蒸發（fā）材料放入水冷銅坩堝中，可避（bì）免坩堝（guō）材料汙染，製備高純薄膜；

3.電子束蒸發顆粒動能大，有利於獲得致密結合力好的膜層。

電子束加熱蒸發的缺點:

1.結構複雜，設備價格昂貴；

2.如果蒸發源附近的蒸汽密度高，電子（zǐ）束流和蒸汽（qì）顆粒會相互作用，電子通量會丟失，導致軌道偏移；同時（shí），蒸汽和（hé）殘留氣體的刺激和電離會影響膜（mó）質（zhì）量。

電子（zǐ）束加熱蒸發源的形式。

電子束蒸發源由電子槍和坩堝兩部分組（zǔ）成，有時還附有供（gòng）給（gěi）材料的機械。在很多情況（kuàng）下，產生和控製電子束的裝置（zhì）和坩堝設計（jì）成一體。電子束加熱蒸發源有以下結構形式

1.直線陰極和靜電聚焦蒸（zhēng）發器。

2.環形陰極和（hé）靜電聚焦蒸發器。

3.帶軸向槍和靜（jìng）電遠蒸發器（qì）。

4.帶軸向槍、磁聚焦、磁偏（piān）轉90度的蒸發器。

5.帶橫槍（qiāng）和磁偏轉90度的蒸發器。

6.帶環形陰極、靜電（diàn）聚焦和靜電偏轉的蒸發器（qì）。

7.E型電子槍蒸（zhēng）發器，E型電（diàn）子束蒸發源發射（shè）的電子軌跡類（lèi）似於e字，所以簡稱E型（xíng）槍。目前，這種蒸發源廣泛應用於真空蒸鍍工藝。