離子鍍膜工藝及其參數

離子電鍍要想獲得符合性能要求的薄膜，必須使沉積的薄膜具（jù）有（yǒu）適當的成分和組（zǔ）織結構及其薄膜（mó）基結合力。可以利用上述離子轟擊效果對（duì）成膜過程各環節的有利影響來實現（xiàn）。離子電鍍影響成膜的（de）主要因（yīn）素是（shì）到達基片的各種粒子(包括膜原子和離子、工作（zuò）氣體的原子和離子、反應氣體的原子（zǐ）和離子)的能量、通量和各通量的比例。

此外（wài），還有基片的表麵狀態和溫（wēn）度。實施的手（shǒu）段重要的是（shì）控製粒子的等（děng）離子體濃度和能量以及基礎溫（wēn）度的上升。不同的離子電鍍技術和設備產生和控製等離子體的機製（zhì）不同。影響成膜工藝參數主要有（yǒu）鍍膜室的氣壓、反應氣體的分壓、蒸發源的電力、蒸發（fā）速度、蒸發源和基礎之間（jiān）的（de）距離、沉積速度、基礎的負（fù）偏壓和基（jī）礎溫度。

公司以現代薄膜技術為核心，以真空技術（shù）和電子高科技為技術保障，以人性化使（shǐ）用為（wéi）設計基準，努力在17c.c-起草口的產品開發和設備製造方麵取得精益求精。公司（sī）將以最優質、最熱情的服務回報廣大客（kè）戶，願與廣大用（yòng）戶共同發展進步，為我國真空鍍膜事業做出自己的貢獻。

17c.c-起草口企（qǐ）業的（de）宗旨（zhǐ）是重質量，守信譽，熱烈歡迎國內外（wài）用戶前來洽談業務，建立（lì）技術與商業合作關（guān）係。

本公司技術力量雄厚，設（shè）備精良，檢測手段完善，可根據用戶要求設計製造各種真空設備。