無論監(jiān)視器(qì)的精度如何,隻能控製真空室單(dān)點位置的薄膜厚度,一般是(shì)工(gōng)件架的中間位置。如果真空電鍍設備這個位置的薄(báo)膜厚度不(bú)均勻的話,遠離中心位置(zhì)的基得不到均勻的厚度。屏蔽罩可(kě)以消除長期的不均勻性,但有(yǒu)些薄膜厚度的變化是(shì)由蒸發源的不穩定性和薄膜材的不同表現引起的,因此(cǐ)幾乎無法消除,但真空室結構和(hé)蒸發源的適當選擇可以大限度地減少這些影響。
近年來,越來越多的用戶要求鍍膜係統(tǒng)製造商提供高性能的小規格、簡單的光學鍍膜係統,同時,用戶對(duì)性能的要求不僅沒有下降,還提高了,特(tè)別是在薄膜(mó)密度和吸水後的光譜變化最小化等方麵。
目(mù)前,係統平均尺寸規格已經下降,使用小規格(gé)設(shè)備進行光(guāng)學鍍(dù)膜的生產(chǎn)也成為純技術問題。因此(cǐ),選擇現代化光學塗層係統(tǒng)的關鍵是認真考慮塗層產品的期待性能、基礎尺寸和物理特性以及保(bǎo)證高(gāo)度一致(zhì)性技術所需(xū)的所有技術因素。
設備(bèi)的好壞決定了鍍層的質量嗎?
設備的好壞決定了鍍(dù)層的質量嗎?電鍍機根據一定的技術要求組合了相關的控製裝置、電鍍槽、電鍍室、真空環境、過濾設(shè)備、電源設備、檢測設備(bèi)、加(jiā)熱冷卻(què)裝置等部件,為了實現整個技術(shù)流程,通(tōng)過(guò)良好的設備可以提高產品電(diàn)鍍的生產效率和質量。
真空電(diàn)鍍生(shēng)產中使用生產原(yuán)材料加入酸、堿的腐蝕性物質很多,設備長時間(jiān)在這樣的工作環境下運行,不能避免線路腐蝕、潤滑(huá)下降等問題,長時間設備穩定性下降,電鍍(dù)膜受到一定程度的影響,設備停止工作(zuò)。
好的設備更耐用、更穩定:電鍍設備適用於金屬、木(mù)材、水泥、塑(sù)料、陶瓷、樹脂、陶瓷、丙烯酸、磷鎂等(děng)各種材(cái)料,廣泛應用於電(diàn)器、玩具、手機、汽車、電腦、工藝(yì)品、飾品、家具等硬塗層行業等(děng)。
好的(de)真空鍍膜設備的(de)鍍(dù)層質量會更高,對於同樣的工藝,同樣的鍍(dù)層使用時(shí)間會更短,符合(hé)材料的塗層結合(hé)會更牢固(gù)、明亮、均勻、致(zhì)密、連續,大幅度(dù)降低成本。
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