真（zhēn）空鍍膜磁控濺射方法（fǎ）是什麽

2021-01-03 16:42:03

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磁控濺射（shè）方法是指電子在電場的作用（yòng）下加速飛入基底，與氬原子碰撞，電離出（chū）大量的氬離子（zǐ）和電子，使電子飛入基底。由於采用高壓電場激發產生等（děng）離子體鍍膜材料，幾乎所有的高熔點金屬都能使（shǐ）用，因此相對於真空鍍膜法成本也較高，但與真空鍍膜法製造工藝相比，磁控濺（jiàn）射法具有鍍膜層與基材層結合力強、鍍層致密、均勻等（děng）優點。

磁控濺射真空鍍膜設備是指在真空條件下，現有產品采用的多功能鍍膜設備，它由多個係統組（zǔ）成，每一個係（xì）統可完成不同的功能，從而達到*的高質量鍍膜，其中包括真空腔、機械泵、真空測（cè）試係統、油擴散泵、抽真空係統、冷凝（níng）泵（bèng）及（jí）成膜控製係統等。

真空鍍膜

真空鍍膜機：鍍膜工藝主（zhǔ）要有真空磁控濺射法、真空蒸發法、化學氣相沉積（jī）法和溶膠-凝膠法等。利用磁控濺射技術可以設計和製作多層複合膜係，可在白色（sè）玻璃基底上鍍上（shàng）多種顏色，IPG型鍾表鍍膜機是一種耐腐蝕、耐磨、耐腐蝕性能好的鍍膜設備，是目前生產和使用最（zuì）廣泛的產品之一。與磁控（kòng）濺射法相比，真空蒸鍍玻璃的種類和質量都有一定的差距，並（bìng）逐漸用真（zhēn）空濺射法代替。化學氣相沉積（jī）法是（shì）指在浮法玻璃生產線上，反應性氣體（tǐ）在燒焦的玻璃表麵上分解，均（jun1）勻地沉積形成鍍（dù）膜玻璃。