真空鍍（dù）膜機鍍（dù）膜工藝怎麽樣

2021-01-03 16:28:32

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真空鍍膜機采用不同的鍍膜工藝，其自動化控（kòng）製係統（tǒng）也不盡相同，即使是相（xiàng）同的鍍膜工藝，由於控製技術指標的不同，所采用的控製係統也不盡相（xiàng）同。微機（jī）自動控製係（xì）統、自（zì）動控製裝置、工業自動化儀表（biǎo）、壓力控製儀、真空計（jì）及某些自動控製元（yuán）件（jiàn）等一般鍍膜設備（bèi）的基本構成，可以實現（xiàn）對真空鍍膜設備的（de）程序自動控製、轉換鍍膜過程、調整真空工藝參數等基本功能。

真空鍍膜機

對真（zhēn）空鍍膜機的（de）控製係統進行選（xuǎn）型時，必須能有（yǒu）效地滿足真空鍍膜設備及其工藝對控製的需要，注意真空鍍膜設備的各種構造與自動（dòng）控製係統的配合，要求自動控製係統結構簡單，成本低（dī），自動化程度不一（yī）定很高（gāo），但必須保證真空鍍膜設備安全可靠，使（shǐ）用方便，易於維護。控製係統對自動控製裝置及其部件、自動（dòng）儀表的選擇應合理。

負壓（yā）鍍膜是膜體（tǐ）在高溫下蒸發到工件表麵（miàn）的結晶。因為空氣對蒸發的膜體分子（zǐ）會產生阻力而與之發生碰（pèng）撞，使得結晶體變得粗糙而無光，因（yīn）此必須在高真空下使結晶體產生細密光亮，如（rú）果（guǒ）真空度不高（gāo），結晶體就會失去（qù）光澤，結合力（lì）也很差。利用磁場，加快中頻（pín）磁控濺射靶對膜體蒸發的分子進行轟擊，濺射出大量的目標原子，使（shǐ）中性目標原子(或分子)沉積在（zài）基底上，形成薄膜，解（jiě）決了以往自然蒸發不能加工的膜體品種。由於高頻高電流大（dà），中頻設備必須加入冷卻水。當電流通過導體的時候，會產生集膚效應，電荷會（huì）聚集在導電表麵，從而產生發熱，因此采用中孔管做導體（tǐ）的中間加（jiā）水冷卻。