真空鍍膜設備廠家為（wéi）你介紹多弧離子鍍的起源（yuán）與其（qí）原理和種類

D.M.Mattox於1963年提（tí）出真（zhēn）空離子鍍膜，並（bìng）開始實驗。一九七一年（nián），Chamber等發布了電子束離子鍍技術，一九七二年（nián），B報告了反應蒸發鍍技術，並製作了TIN和TIC超硬膜。同一（yī）年，MOLEY和SMITH將中空（kōng）陰（yīn）極技術（shù）應用（yòng）於鍍膜。二十（shí）世紀八十年代（dài），國內又相繼出現了多（duō）弧離（lí）子鍍和電弧放電高真空離子（zǐ）鍍，至今已達到工業應用水平（píng）。

離子鍍膜的原理和類型:

在（zài）真空室中，離子鍍是（shì）利用氣體放電或被蒸（zhēng）發物質部分分離，在氣體（tǐ）離子或被（bèi）蒸發物質顆粒轟擊的（de）同時（shí），將蒸發物或（huò）反應物（wù）沉積在基片上（shàng）。離子體電鍍將輝光放電現（xiàn）象、等離子體技術與真空蒸發（fā）有機結（jié）合，不僅可以明顯提高（gāo）膜的質量，而且可以擴大（dà）膜的應用範（fàn）圍。其優點是膜附著（zhe）力強、繞射（shè）性好、膜材廣泛等（děng）。D.M.首次提出離子電鍍原理，工作過程如下:

首先（xiān），將真空室抽到4×10(-3)帕以上的真（zhēn）空度，然後打開高（gāo）壓電源，在蒸發源和基片之間建立低壓氣體放電的低溫等（děng）離子區。基片電極連（lián）接5KVDC負高壓，形成輝（huī）光放電陰極。輝光（guāng）放電（diàn）區（qū）產（chǎn）生的惰性氣體離子進入陰極（jí）暗區（qū），被電場加速，轟擊基片表麵進行清洗。然後進入塗層過程，加熱使塗層氣化，原子進入等（děng）離子（zǐ）區，與惰性氣體離子和電子碰撞，少數產生離化。離子和氣體離子以更高的能量轟擊（jī）塗層表麵，從而提高塗層質量。

離子鍍層種類繁多，蒸發源加熱方式有電阻加熱、電子束加熱、等離子電子束加熱（rè）、高（gāo）頻感應加熱（rè）等。

然而，多弧離子電鍍（dù）與普通離子電鍍有很大不同（tóng）。多弧離子電鍍采用（yòng）弧放電，而不是傳統離子電鍍的輝放電。簡而言之（zhī），多弧（hú）離子（zǐ）電鍍的原理是將（jiāng）陰極靶作為蒸發源，通過靶與陽（yáng）極（jí）殼之（zhī）間（jiān）的弧放電蒸發靶材，在空間中（zhōng）形成等離子體，沉積基體。