為了滿足各種多層薄膜和複合膜(mó)的(de)要求,多功(gōng)能複合離子鍍(dù)膜機已成為目(mù)前研究發展的方向和熱點。複合離子鍍(dù)膜機采用雙目標先進技術,克服了直流濺射固有的目標中毒、起火等不良(liáng)缺點,可以鍍AL2o3、SiO2氧(yǎng)化優(yōu)質(zhì)膜,提高鍍層抗氧化耐腐蝕性。
複合離子鍍膜機中心安裝柱狀多弧靶,靶為鈦或鋯。它不僅能保持多弧技術離化率高、沉積率高的特(tè)點,還能有效減少小平麵多弧靶沉(chén)積過程中不可避免的液滴缺(quē)陷,從而製備低孔隙率的金屬膜或(huò)化合特膜;雙胞胎平(píng)麵磁控(kòng)靶安裝(zhuāng)在周圍,目標是鋁或矽,可以鍍Al2O3和SiO2金屬陶瓷膜;中外(wài),周(zhōu)圍安裝多個小平麵多弧蒸發源,目標是(shì)鉻或鎳,可(kě)以鍍多層金屬膜和多層複合膜。
複合離子鍍膜設備具有多種不(bú)同形式的鍍膜裝置和不同材料的蒸發源和發射(shè)靶,既能獨立工作,又能同時工作,既(jì)能製(zhì)備純金屬薄膜,又能(néng)製備金屬(shǔ)化合(hé)物(wù)薄膜或複合材料薄膜,既能製備單層薄膜,又能製備多層複合薄膜,廣泛。
多弧離子鍍技術以其獨特的優勢得到了廣泛(fàn)的應(yīng)用。隨著科學技術和生產的發展,它將繼續開拓其(qí)應用領域。根據目前的情況,該技術(shù)將在以(yǐ)下幾個方麵發展很大(dà):
1)新型高效(xiào)可控弧靶,包括新型電(diàn)源;
2)除DC外(wài)的其他偏壓電源;
3)結合(hé)非平衡磁控濺(jiàn)射技術的新型蒸發器;
4)整體(tǐ)結構(gòu)形式多樣;
5)通過計算機輔助設計和控(kòng)製實現技術多樣化(huà)。
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