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廣東真空設備通用術語與技（jì）術（上）
1.1真（zhēn）空鍍（dù）膜：在真空中在基材上製膜的方法。
1.2基底。
1.3測試基板：在塗層（céng）開始、塗（tú）層期間或塗層之後用於測量和/或（huò）實驗的基板。
1.4塗層材料：用於（yú）製備塗層的原材料。
1.5蒸騰數據：用於真空蒸騰的塗層數據（jù）。
1.6濺射材料：用於真空濺射（shè）的（de）濺射材料。
1.7膠片材質：膠片（piàn）的材（cái）質。
1.8蒸騰速率：給定時（shí）間距離（lí）內的蒸騰數據量除以時間距離
1.9濺射率：給（gěi）定時間距離內的濺射數據量除以時間距離。
1.10沉積速率：在給定時間距（jù）離內沉積在基板上的數據（jù）量，除以時間距離和基板的表麵積。
1.11塗層角度：粒子入射到基體（tǐ）上的方向與塗層表麵法線之間的角度。
2技術
2.1真（zhēn）空蒸發鍍膜（mó）：使鍍膜數據發汗的真（zhēn）空鍍膜過程。
2.1.1同時（shí）蒸騰：一種真空蒸騰過程，其中各種蒸騰數據通過幾個蒸（zhēng）騰儀沉積在一個基質上（shàng）。
2.1.2蒸騰場（chǎng）蒸發：將蒸騰場數據一起真空蒸（zhēng）騰到（dào）基材上（shàng）進行蒸發（此技術應用（yòng）於大麵積蒸（zhēng）騰，以獲得所需的膜厚（hòu）分布）。
2.1.3反應性真空發汗：通過與氣體反應獲（huò）得所需薄膜化學成分的真空發汗。
2.1.4蒸騰儀中的（de）反應真空蒸騰：與蒸騰儀中的各種蒸騰數據反應以獲（huò）得所需化學成分膜數據的真空蒸騰。
2.1.5直接加熱蒸騰：所（suǒ）有必（bì）要的蒸騰熱是蒸騰數據（在坩堝內（nèi）或不（bú）在坩堝內（nèi））自身（shēn）加熱的蒸騰。
2.1.6感應加熱發汗：感應加熱的發汗數據。
2.1.7電子束發汗：電子轟擊加熱的（de）發汗（hàn）。
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