真空鍍膜機

2021-01-07 16:30:47

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在真空幹燥設備中具（jù）有不同塗層工藝的真空塗層機使用不同的自（zì）動（dòng）控製係統，甚至具（jù）有相同塗（tú）層工藝的真空塗層機也會由於控製技術指標的不同而使用不同的控製係統。通用鍍膜設備自動控製係統的基本組成部分是微機，自動控製設備，工業自動化儀表，壓力（lì）控（kòng）製器（qì），真空計和一些自動控製組件等，可以實現真（zhēn）空鍍膜設備程序的自動控製，切換鍍膜工藝流程，基本（běn）功能，如調整真空工（gōng）藝參數。

在選擇真空鍍膜（mó）機的控製係統時，前提是它（tā）能有效滿足真空鍍膜設備及其鍍膜過（guò）程的控製要求，注意真空鍍膜設備的各種結構與自動控製之間的配合程度。係統，並且要求自動控製係統具有簡單的結構，經濟的，不一（yī）定是很高的（de）自動（dòng）化程度，而（ér）是要確保真空鍍（dù）膜設備的安全性，可（kě）靠性，操作方便和（hé）易於維護。控製（zhì）係統在（zài）選擇自動控製設備及其部件和自動儀表時應合理。

真空鍍（dù）膜機

真空鍍膜（mó）是高溫下薄膜主體的蒸（zhēng）發，使其在工件表（biǎo）麵上結晶（jīng）。由於（yú）空氣將對蒸發的薄膜分子產生阻力，並引起碰撞，使晶（jīng）體粗糙而晦暗，因此必須在（zài）高真（zhēn）空下使晶（jīng）體細膩明亮。如果真空度（dù）不高，晶體將失去光澤，並（bìng）且（qiě）粘合力也非常差。中頻磁控濺射靶利用磁控靶，在電場的作用（yòng）下（xià）加（jiā）速膜體蒸（zhēng）發分子對靶材料的轟擊，濺射大量靶原子和中性（xìng）靶原子（或分子）。）沉積在基板（bǎn）上。膜解決了過去自然（rán）蒸發無法處理的膜品種問題。中頻設備由於（yú）其（qí）高頻和（hé）大電流（liú）而必須（xū）添加冷卻水。當電流在導體中流動時，會產生（shēng）集（jí）膚效應，電荷會積聚（jù）在導體表麵，從而使導體發熱，因此使用中孔管作（zuò）為導體（tǐ）以添加水進行冷卻。