真空鍍(dù)膜技術是指(zhǐ)在真空環境中,某些金屬或金屬化合物以蒸氣的形(xíng)式沉積在材料(通常是非金屬)的表麵(miàn)上。這是物理氣相沉積過程(chéng),因為(wéi)塗層通常是鋁,錫,銦和其他金屬的薄膜,因此也稱為真空金(jīn)屬化。真空鍍膜設備的功能主要是使鍍層部件的表麵具有高度的金屬光(guāng)澤和鏡麵效(xiào)果,尤其是對於汽車燈罩而(ér)言,具有(yǒu)非常重要的聚光效果;其(qí)次,使鍍層具(jù)有出色的阻隔性能,提(tí)供出(chū)色的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。
根(gēn)據(jù)生產氣相金(jīn)屬的方法和塗層的沉積方法,真(zhēn)空塗覆分為兩個過程:熱蒸發塗覆方法和磁控濺射塗覆方法。其中,磁控(kòng)濺(jiàn)射法具有塗層與(yǔ)基材之間的結合力強,塗層致密均勻的優點,並具(jù)有(yǒu)更多的技術優勢。真空鍍膜的材料主要是金屬和金屬氧化物(wù)。金屬(shǔ)塗層材(cái)料包括鋁,錫,銦,鈷(gǔ),鎳,銅,鋅,銀,金(jīn),鈦,鉻,鉬,鎢等;合金塗層材料包括鎳鉻(gè),鎳鐵,鐵(tiě)鈷,金銀金等。金屬化合物包括二氧化矽,二氧化鈦,二氧化錫等。其(qí)中,鋁是最常用的。這主要是由於鋁的蒸發溫度低,易於操作,鋁塗層與塑料的附(fù)著力好,對紫外線和氣體的抵抗力強(qiáng)以及價格低廉。
真空鍍膜設備的功能是多方麵的(de),這決定了其廣泛的應用範圍。真空(kōng)鍍膜(mó)的(de)主要功能是賦(fù)予被(bèi)鍍部件(jiàn)表麵高度的金屬光澤和(hé)鏡(jìng)麵(miàn)效果,使薄膜在薄膜材料上具有(yǒu)優異的阻隔(gé)性能,並提(tí)供出色的電磁屏蔽和導電效果。真空鍍膜技術是指在真(zhēn)空環境下,某些金屬化合物以蒸氣(qì)的形式沉積在材料(通常是非金屬材料)的表麵(miàn)上。這是物理氣相沉積過程。由於塗層通常是金屬膜,因此也稱為真空金屬化。