磁控濺射對鍍膜的作用

2021-01-13 18:57:07

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磁（cí）控（kòng）濺射是指電子與氬（yà）原子碰撞，電離出大（dà）量氬（yà）離子和（hé）電（diàn）子，在電（diàn）場作用下飛向襯底。它是一種利用高壓電場激發產生等離子體的塗層材料，幾乎適（shì）用於所有高熔點金屬，因此比真空鍍膜（mó）法成本更高。但與真空鍍膜法相比（bǐ），磁控濺射（shè）法具有鍍膜層與基體層結（jié）合力強、鍍膜層致（zhì）密均勻等優點。

磁控濺射

真空鍍（dù）膜的作用主要是（shì）賦予（yǔ）被鍍膜（mó）件表麵高（gāo）的金屬光澤和鏡麵效果，特別是在汽車燈罩中，其次是賦予（yǔ）塗層優異的阻（zǔ）隔性能，提供優異的電磁屏蔽和導電效果。根據產生和沉（chén）積蒸汽金屬的不同方式，真空鍍膜可分為熱蒸發鍍膜和磁控濺射鍍膜兩種工（gōng）藝。其中，磁控濺射法因（yīn）其塗層與基體的附著力強、塗層致密均勻等優點而具有更多的技術優勢。真空鍍膜（mó）技術是指在真空環境下，以氣相的形式（shì）在材（cái）料(通常為非金屬)表麵沉積金屬或金屬化合物，屬於物理氣相沉（chén）積技術。因為塗層通（tōng）常是鋁、錫和銦等金屬的薄膜，所以也稱為真空金（jīn）屬化。

真空鍍膜是真（zhēn）空應用領域的一個重要方麵。它以真（zhēn）空技術為（wéi）基礎，采用物理或化（huà）學方（fāng）法，吸收電（diàn）子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和（hé）磁控等一係列新技術（shù），為科學研究和實際生產提供薄膜（mó）製備新（xīn）技術。簡而言之，金屬、合金或化合物在真空中蒸發（fā）或（huò）濺射，以固化和固化在塗覆的物體上(稱為基底和襯底)