磁控（kòng）濺射鍍膜設備工作是怎麽樣的

2021-01-08 16:45:15

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磁控濺射是指電子在電場作（zuò）用下（xià）被加速到基板時，電子與氬原子（zǐ）發生碰（pèng）撞，使大量的氬離子和電（diàn）子電離，電子飛向基板。它使用高壓電場激發產生等離子塗層材（cái）料，該材料幾乎適用於所有高熔點金屬（shǔ），因此成本高於真空塗層方（fāng）法，但磁控濺射方法與真空塗（tú）層相比具有塗層（céng）方法製造工藝具有與基材層的結合力（lì）強，塗層（céng）致密均勻的（de）優點。

磁控濺射鍍膜設備（bèi）

磁控濺射真空鍍膜設備是現有產品在真空（kōng）條件下進行鍍（dù）膜的最常用設備。完（wán）整的磁控濺射真空鍍膜機由多部分係統組成，每個係統可以完成不同（tóng）的功能。磁控濺射鍍膜的功能包（bāo）括真空室，機械泵，真空測（cè）試係統，油擴散泵，真空係統，冷凝液泵和薄膜控製。係統等，以實現最終（zhōng）的高質量塗層。

真空鍍膜機：鍍膜主要包括真空磁（cí）控濺射法（fǎ），真（zhēn）空蒸發法，化學氣相沉積（jī）法和溶膠-凝膠法。磁（cí）控濺射鍍膜玻（bō）璃可以利用磁控濺射技術設（shè）計（jì）和製造多層複合膜係統，該係統可以在白色玻璃基板（bǎn）上塗覆多種顏色（sè）。 IPG手（shǒu）表塗層機，該膜具有更好的耐腐蝕（shí）性和（hé）耐磨（mó）性。，是目前生產和使用最頻繁的產品之（zhī）一。與磁控濺射鍍膜玻璃（lí）相比，真（zhēn）空蒸發鍍膜玻（bō）璃的品種和質量有一定差距，已逐漸被真空濺射（shè）代替。化學氣相沉積法是將反應氣體引入浮法玻璃生產線（xiàn）以在（zài）熱玻璃表麵上分解，並均勻地沉積在玻璃表麵上以形成（chéng）鍍膜玻（bō）璃。