磁控濺射靶為什麽在發射過程中會產（chǎn）生高溫

真空鍍膜是真空應用領域的（de）一個（gè）重要方麵。它以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控管等一係列新技術，使薄膜成為一種新的製備工藝。簡單地說，它是一種將金屬、合金（jīn）或化合物在真空中（zhōng）蒸發或（huò）濺射，使其固（gù）化並沉積在被塗基材上的方法，稱為真（zhēn）空（kōng）塗層。真空鍍膜是一種（zhǒng）需要在較高真空度下進（jìn）行的鍍膜，包括真空離子蒸（zhēng）發、磁控濺射、MBE分子束外延、PLD激（jī）光濺射（shè）沉積等。

在（zài）真空鍍膜（mó）過程中，磁控（kòng）濺射靶在發射過程中會產生高（gāo）溫，導致靶體變形，因此磁控濺射靶體有水套（tào）來冷卻靶體。

為了保證水套內的水（shuǐ）溫不受環境和自然溫度的影（yǐng）響，通常需要使用冷水機對真空鍍膜機進行冷卻。真空（kōng）鍍膜冷水機可將（jiāng）水溫穩定在5℃~30℃，進行調節和控製，有（yǒu）效控（kòng）製真空鍍膜機的溫度，提高鍍膜（mó）件的（de）質量。薄膜是在真（zhēn）空中製（zhì）備的，包括簡單（dān）或複合薄（báo）膜，如結晶金屬、半導體和絕緣（yuán）體（tǐ）。

化學氣相（xiàng）沉（chén）積雖然（rán）也采用減（jiǎn）壓、低（dī）壓或等（děng）離子等（děng）真空（kōng）方法，但真空鍍膜一般是指沉積薄膜的物理方法。真空鍍膜（mó）有三種形式，即蒸（zhēng）發鍍膜、濺射鍍膜和離（lí）子鍍膜。真空鍍（dù）膜的通用性也決定了其廣泛的應用範圍。總的來（lái）說（shuō），真空鍍膜（mó）的主要作用是使鍍膜零件表麵具有高度的金屬光澤和鏡麵（miàn）效果，使鍍膜對鍍膜材料具有優異的阻（zǔ）隔（gé）性能，並具有良好的電磁屏蔽和導電效果。