真空鍍膜廠家告（gào）訴你發展趨勢

1）增強ARE型。利用（yòng）電子束進行加熱；充入Ar，其它惰性氣體，反應氣體氧氣，氮氣（qì）等；離化方式（shì）：探極除吸引電子束的一次電子，二次電（diàn）子外，增強極（jí）發出的（de）低能（néng）電子也可促進氣體離化。真空蒸發這種方法的特點是：基板（bǎn）溫升（shēng）小，

要對基板加；可用於鍍（dù）機械製品，電子器件，裝飾（shì）品。

2）低壓等離子體離子鍍（LPPD）。利（lì）用電子束進行加熱；依靠等離子體使充入的惰性氣體，反應氣（qì）體離化（huà）。這種方法的特點（diǎn）是：基板溫升小，要對基板加熱，結構簡（jiǎn）單，能獲得氧化鋁，氮化鈦，碳化鈦等離子化合物鍍層；可用於鍍機械（xiè）製（zhì）品，電子器件，裝飾品。

3）真空泵電場蒸發。利用電子束進行加（jiā）熱依靠電子（zǐ）束形成的金屬等離子體進行離化。這種方法的特點是：基板（bǎn）溫升小，要對基板加熱，帶電場的真空蒸鍍，鍍層（céng）質量好；可用於鍍電子器件，音響器件。

4）感應離子加熱鍍。利用高頻感應進行加熱；依靠感應漏磁進行（háng）離化。這種方法的特點是：基板溫（wēn）升小，能獲得化合物鍍層；可用於機（jī）械製品，電子器件，裝飾品。

5）集團離（lí）子束鍍。利（lì）用電阻加熱，從坩鍋中噴出集團狀蒸發顆粒。依靠電子發射或從燈絲發出（chū）電子的碰撞作（zuò）用進行離化（huà）。這種方法的特點是：基板溫升小，即（jí）能鍍金屬膜又能直接鍍化合物膜，如氧化鋅等；可用於鍍電子器件（jiàn），音（yīn）響器件。

6）多弧離子鍍。利用陰（yīn）極弧光進行加（jiā）熱；依靠蒸發原子束（shù）的定向運動使反應（yīng）氣體(或（huò）真空)離化。這種方法的特點是：基板溫升較大，離化（huà）率高（gāo），沉積速率大；可（kě）用於鍍機械製品，刀鋸，模具。

真空（kōng）鍍膜技術（shù）的發展趨（qū）勢（shì）

科（kē）技發展愈來愈快，信息高速公路，數字地球等新概念的提出，影響和帶動了全（quán）球高科技的發展，目前，生命科學，環保科技（jì），材（cái）料科學和納米科（kē）技是高科技重（chóng）點研究的領（lǐng）域；納米科技中又以（yǐ）納米電子學為優（yōu）先研究領域。 

目前計算機和信息技術的基礎是（shì）超大規模集成電路；但（dàn）下個世紀的基本元件將是納米（mǐ）電子集成電路。它是微（wēi）電子器件的下（xià）一代，有自己的理論，技術和材料。現有（yǒu）微電子（zǐ）器件的主要（yào）材料是極純的矽，鍺等晶體半導體。納米電

子器件有可能是以有機或無機複合晶體薄（báo）膜為主要（yào）原理，要求純度更高，結構更完善。真空製備的清潔環境，有希望加工組裝出納米電子器件所要求的（de）結構。 

總之，表麵和薄膜科學，微電（diàn）子器件及納（nà）米技（jì）術等迅速發展，將使一起開發和檢測方法體係（xì）研究成為真（zhēn）空鍍膜（mó）技術中的（de）發展重點；而電子束蒸發源將是真空鍍膜技術中的一種（zhǒng）重要的加熱方法和發（fā）展方向。