真空鍍膜設備主要是指需要(yào)在高真空度下進行的鍍膜,包括多種,包(bāo)括多弧離(lí)子真空鍍(dù)膜設備、真空離子蒸發、光學鍍膜機、磁控濺射(shè)、MBE分子束外延、PLD激(jī)光濺射沉積等。真空鍍(dù)膜的工作原理是薄膜在高(gāo)溫下蒸發,落到工件表麵結晶。因為空氣會對蒸發的膜分子產生阻力,造成碰撞,使晶體變得粗糙、暗(àn)淡,所以需要在高(gāo)真空下使晶體變得細小、光亮。真空(kōng)度不高,晶體會失去光(guāng)澤,結合力差。早期真空鍍膜依靠蒸發(fā)物的自(zì)然散射,結合效率差,光澤度差。現在,隨著中頻磁控(kòng)濺射靶的加入,膜體的(de)蒸發分子在電場的作用下受到靶材的轟擊,大量的靶(bǎ)原子被濺射出來,中性的靶原子(或分子)沉積在襯底上形(xíng)成薄膜,解決了以往自然蒸發無法處理(lǐ)的膜體品種,如鍍(dù)鈦(tài)、鍍鋯等問題。
目前,真空技術在石油、化工、冶金等行業的真空蒸發、結晶、蒸餾、升華、幹燥、負(fù)壓濃縮、脫水、化學反應(yīng)吸(xī)收和真空輸送過程中的應用越來越廣泛。真空技術應用(yòng)於(yú)各種加工工藝後,可以節能降耗,加快反(fǎn)應速(sù)度,提高產品質量,增加經濟效益,並逐漸形成(chéng)共識。但真空技術是一(yī)門(mén)邊緣科(kē)學,解放(fàng)後中(zhōng)國的真空產業消化吸收了。蒸(zhēng)汽噴射真空泵具有高真空、低能耗、運行穩定、無機械摩擦、使用壽命長、設備安全等優點(diǎn)。在高真空要求的(de)工作(zuò)係統(tǒng)中,蒸汽(qì)噴射真空泵(bèng)通常(cháng)是選的真空泵設備。
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